| Fabricante | MRL |
|---|---|
| Modelo | Bandit 218 |
| Año | |
| Ubicación | Estados Unidos
|
| Categoria | Semiconductores - varios |
| horas en marcha | |
| horas bajo tensión | |
| estado general | bueno |
| con Normativas CE | --------- |
| condición | visible |
| Última fecha de disponibilidad | 10/03/2026 |
| Número de producto | P240314058 |
| Idioma |
Пещ MRL Bandit 218
Pec MRL Bandit 218
MRL Bandit 218 ovn
MRL Bandit 218-Ofen
Φούρνος MRL Bandit 218
MRL Bandit 218 Furnace
Horno MRL Bandit 218
Fourneau MRL Bandit 218
MRL Bandit 218 Peć
MRL Bandit 218 kemence
Forno MRL Bandit 218
MRL Bandit 218 krosnis
MRL Bandit 218 Oven
Piec MRL Bandit 218
Forno MRL Bandit 218
MRL Bandit 218 Cuptor
Топка MRL Bandit 218
MRL Bandit 218 Peć
MRL Bandit 218-ugn
MRL Bandit 218 Fırın
|
Este anuncio es para un horno de procesamiento de semiconductores MRL Bandit 218, diseñado para aplicaciones avanzadas de LPCVD (Deposición Química de Vapor a Baja Presión). El horno cuenta con dos tubos LPCVD: uno configurado para TEOS (tetraetil ortosilicato) y procesos de recocido, y el otro para deposición de nitruro y polímero, apoyando diversas necesidades de fabricación de semiconductores. El diámetro del tubo del horno mide 200 mm.
El equipo incluye conexiones de gas completas para soportar varios gases de proceso, incluyendo aire con bajo N2, nitrógeno (N2), FG1, argón (Ar), oxígeno (O2), SiH2Cl2 (DCS), SiH4 y NH3. Esta variedad de entradas de gas permite recetas de proceso flexibles y técnicas de dopado. La integridad del vacío se mantiene mediante dos bombas de vacío Kashiyama equipadas con ventiladores, asegurando condiciones de vacío confiables durante el procesamiento.
El control se gestiona a través de dos paneles de control montados en la parte frontal con botones y pantallas, facilitando la interacción del usuario y los ajustes del proceso. Se integra un controlador de fuente de dopantes Schumacher M-Dot, que proporciona un control preciso de la entrega de dopantes. Las dimensiones del horno y del módulo de gas son 66 x 36 x 78 pulgadas y 18 x 36 x 78 pulgadas respectivamente, indicando una huella sustancial adecuada para entornos industriales de fabricación de semiconductores.
Los requisitos de energía para la unidad son 480V con una corriente máxima de 250 Amperios. El equipo aparenta estar limpio y bien mantenido sin daños visibles, reflejando un buen estado general. Componentes adicionales visibles incluyen brazos robóticos naranjas montados en el lado derecho del equipo, probablemente usados para tareas de manejo o procesamiento, y una estación de trabajo con computadora, monitor CRT y teclado ubicada cerca para control y monitoreo operativos.
Este horno MRL Bandit 218 es una solución robusta para instalaciones de procesamiento de semiconductores que buscan capacidades confiables de LPCVD con características integradas de control y automatización.
La siguiente descripción se ha generado mediante inteligencia artificial a partir de la información disponible del producto. Se ofrece solo como orientación y podría no reflejar todas las especificaciones o condiciones. Contáctenos si necesita información precisa o confirmada.
Título de la oferta: Horno MRL Bandit 218
Fabricante: MRL
Modelo: Bandit 218
Estado técnico: Bueno
Estado: Visible
Diámetro del tubo del horno: 200 mm
LPCVD Tubo del horno 1: TEOS/Anneal
Tubo de horno LPCVD 2: Nitruro/Poliéster
Conexiones de gas:
- Aire Bajo N2
- N2
- FG1
- Ar
- O2
- SiH2Cl2 (DCS)
- SiH4
- NH3
Bombas de vacío: 2 bombas de vacío Kashiyama con sopladores
Controlador de fuente de dopante: Schumacher M-Dot
Dimensiones del horno: 66 x 36 x 78 pulgadas
Dimensiones del módulo de gas: 18 x 36 x 78 pulgadas
Requisitos de potencia: 480V, 250 Amperios Max
Tenga en cuenta que esta descripción podría haber sido traducida o optimizada automáticamente mediante inteligencia artificial (IA). La información de este anuncio clasificado es solo indicativa. Recomendamos verificar los detalles con el vendedor antes de realizar una compra.
| Tipo de cliente | Distribuidor de maquinaria |
| Activo desde | 2019 |
| Ofertas en línea | 58 |
| Última actividad | 4 de agosto de 2026 |
Título de la oferta: Horno MRL Bandit 218
Fabricante: MRL
Modelo: Bandit 218
Estado técnico: Bueno
Estado: Visible
Diámetro del tubo del horno: 200 mm
LPCVD Tubo del horno 1: TEOS/Anneal
Tubo de horno LPCVD 2: Nitruro/Poliéster
Conexiones de gas:
- Aire Bajo N2
- N2
- FG1
- Ar
- O2
- SiH2Cl2 (DCS)
- SiH4
- NH3
Bombas de vacío: 2 bombas de vacío Kashiyama con sopladores
Controlador de fuente de dopante: Schumacher M-Dot
Dimensiones del horno: 66 x 36 x 78 pulgadas
Dimensiones del módulo de gas: 18 x 36 x 78 pulgadas
Requisitos de potencia: 480V, 250 Amperios Max
Tenga en cuenta que esta descripción podría haber sido traducida o optimizada automáticamente mediante inteligencia artificial (IA). La información de este anuncio clasificado es solo indicativa. Recomendamos verificar los detalles con el vendedor antes de realizar una compra.
| Categoria | Semiconductores - varios |
| horas en marcha | |
| horas bajo tensión | |
| estado general | bueno |
| con Normativas CE | --------- |
| condición | visible |
| Última fecha de disponibilidad | 10/03/2026 |
| Número de producto | P240314058 |
| Idioma |
Пещ MRL Bandit 218
Pec MRL Bandit 218
MRL Bandit 218 ovn
MRL Bandit 218-Ofen
Φούρνος MRL Bandit 218
MRL Bandit 218 Furnace
Horno MRL Bandit 218
Fourneau MRL Bandit 218
MRL Bandit 218 Peć
MRL Bandit 218 kemence
Forno MRL Bandit 218
MRL Bandit 218 krosnis
MRL Bandit 218 Oven
Piec MRL Bandit 218
Forno MRL Bandit 218
MRL Bandit 218 Cuptor
Топка MRL Bandit 218
MRL Bandit 218 Peć
MRL Bandit 218-ugn
MRL Bandit 218 Fırın
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Este anuncio es para un horno de procesamiento de semiconductores MRL Bandit 218, diseñado para aplicaciones avanzadas de LPCVD (Deposición Química de Vapor a Baja Presión). El horno cuenta con dos tubos LPCVD: uno configurado para TEOS (tetraetil ortosilicato) y procesos de recocido, y el otro para deposición de nitruro y polímero, apoyando diversas necesidades de fabricación de semiconductores. El diámetro del tubo del horno mide 200 mm.
El equipo incluye conexiones de gas completas para soportar varios gases de proceso, incluyendo aire con bajo N2, nitrógeno (N2), FG1, argón (Ar), oxígeno (O2), SiH2Cl2 (DCS), SiH4 y NH3. Esta variedad de entradas de gas permite recetas de proceso flexibles y técnicas de dopado. La integridad del vacío se mantiene mediante dos bombas de vacío Kashiyama equipadas con ventiladores, asegurando condiciones de vacío confiables durante el procesamiento.
El control se gestiona a través de dos paneles de control montados en la parte frontal con botones y pantallas, facilitando la interacción del usuario y los ajustes del proceso. Se integra un controlador de fuente de dopantes Schumacher M-Dot, que proporciona un control preciso de la entrega de dopantes. Las dimensiones del horno y del módulo de gas son 66 x 36 x 78 pulgadas y 18 x 36 x 78 pulgadas respectivamente, indicando una huella sustancial adecuada para entornos industriales de fabricación de semiconductores.
Los requisitos de energía para la unidad son 480V con una corriente máxima de 250 Amperios. El equipo aparenta estar limpio y bien mantenido sin daños visibles, reflejando un buen estado general. Componentes adicionales visibles incluyen brazos robóticos naranjas montados en el lado derecho del equipo, probablemente usados para tareas de manejo o procesamiento, y una estación de trabajo con computadora, monitor CRT y teclado ubicada cerca para control y monitoreo operativos.
Este horno MRL Bandit 218 es una solución robusta para instalaciones de procesamiento de semiconductores que buscan capacidades confiables de LPCVD con características integradas de control y automatización.
La siguiente descripción se ha generado mediante inteligencia artificial a partir de la información disponible del producto. Se ofrece solo como orientación y podría no reflejar todas las especificaciones o condiciones. Contáctenos si necesita información precisa o confirmada.
| Tipo de cliente | Distribuidor de maquinaria |
| Activo desde | 2019 |
| Ofertas en línea | 58 |
| Última actividad | 4 de agosto de 2026 |
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