Información avanzada

Tamaño de la oblea 20.32 cm
-------------------
horas en marcha
horas bajo tensión
estado general bueno
con Normativas CE ---------
condición
Última fecha de disponibilidad 26/06/2025

Descripción automática (generada por IA)

El Mattson Aspen 2 ICP es una herramienta de procesamiento de obleas semiconductoras diseñada principalmente para aplicaciones de oxidación y decapado. Fabricado en 2001, este modelo soporta tamaños de oblea de hasta 20,32 cm (8 pulgadas), configurable según las especificaciones del cliente. El sistema cuenta con una plataforma para casetes compatible con casetes SMIF de 8 pulgadas, facilitando la manipulación de las obleas en un ambiente limpio. Incluye una cámara de enfriamiento con bisagra y una puerta tipo ranura nueva, mejorando el control del proceso y la seguridad de las obleas.

El Aspen 2 ICP está equipado con un ensamblaje estándar de robot y una puerta para casetes de 18 pulgadas para mejorar la accesibilidad. Su generador RF es un Adtek AX-1000 II, acompañado de cajas de adaptación RF Trazar AMU 10D X 4, proporcionando capacidades precisas de generación de plasma. El bloque de calefacción/enfriamiento cuenta con un calentador con un patrón de ranuras circulares diseñado para optimizar la gestión térmica durante el procesamiento.

La entrega de gas se gestiona mediante un sistema de tres gases con controladores de flujo másico unitarios (MFC), alojados en una caja de gas de tipo nuevo, asegurando un control del flujo de gas preciso y estable. El exterior de la máquina muestra claramente el logo de Mattson Technology y parece limpio y bien mantenido, sin daños visibles en su carcasa y paneles blancos. Los componentes visibles incluyen un panel de control con botones e interruptores, placas de circuito y componentes electrónicos en una sección abierta, y un componente blanco cilíndrico grande ubicado en la parte inferior derecha de la unidad. Los cables y el cableado están dispuestos ordenadamente, y hay múltiples asas o pestillos en el panel frontal inferior, indicando facilidad de acceso para mantenimiento u operación.

En general, el Mattson Aspen 2 ICP ofrece una configuración robusta adecuada para la oxidación y decapado de obleas semiconductoras, combinando un control preciso del proceso con una condición física limpia e intacta.

La siguiente descripción se ha generado mediante inteligencia artificial a partir de la información disponible del producto. Se ofrece solo como orientación y podría no reflejar todas las especificaciones o condiciones. Contáctenos si necesita información precisa o confirmada.

Descripción del vendedor

Aspen 2 - ICP doble
Fabricante : Mattson
Aplicación : Asher / Stripper
Modelo : Aspen 2 ICP
Año de fabricación : 2001
Tamaño de la oblea : 6" o 8" ( Configurado a petición del cliente)

Detalles Configuración :

1. Plataforma de casete : SMIF 8
2. Cámara de enfriamiento : Con bisagras, Nuevo tipo
3. Puerta de hendidura : Nuevo tipo
4. Robot Assy : Estándar, Nuevo tipo
5. Puerta de casete : 18"
6. Generador RF : Adtek AX-1000 II
7. Bloque de calor/frío: Calentador , Nuevo tipo con patrón de Ranura Cicular
8. Caja de adaptación de RF : Trazar AMU 10D X 4
9. Gas: 3 gases con UNIT MFC
10. Caja de gas : Nuevo tipo

Por favor, tenga en cuenta que la descripción puede ser automatizada. Contactar con nosotros para más informaciones. La información de este anuncio clasificado sólo es indicativa. Recomendamos a los compradores que la comprueben con el vendedor antes de la compra.


Tipo de cliente Distribuidor de maquinaria
Activo desde 2019
Ofertas en línea 3
Última actividad 7 de abril de 2026

Descripción del vendedor

Aspen 2 - ICP doble
Fabricante : Mattson
Aplicación : Asher / Stripper
Modelo : Aspen 2 ICP
Año de fabricación : 2001
Tamaño de la oblea : 6" o 8" ( Configurado a petición del cliente)

Detalles Configuración :

1. Plataforma de casete : SMIF 8
2. Cámara de enfriamiento : Con bisagras, Nuevo tipo
3. Puerta de hendidura : Nuevo tipo
4. Robot Assy : Estándar, Nuevo tipo
5. Puerta de casete : 18"
6. Generador RF : Adtek AX-1000 II
7. Bloque de calor/frío: Calentador , Nuevo tipo con patrón de Ranura Cicular
8. Caja de adaptación de RF : Trazar AMU 10D X 4
9. Gas: 3 gases con UNIT MFC
10. Caja de gas : Nuevo tipo

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Información avanzada

Tamaño de la oblea 20.32 cm
-------------------
horas en marcha
horas bajo tensión
estado general bueno
con Normativas CE ---------
condición
Última fecha de disponibilidad 26/06/2025

Descripción automática (generada por IA)

El Mattson Aspen 2 ICP es una herramienta de procesamiento de obleas semiconductoras diseñada principalmente para aplicaciones de oxidación y decapado. Fabricado en 2001, este modelo soporta tamaños de oblea de hasta 20,32 cm (8 pulgadas), configurable según las especificaciones del cliente. El sistema cuenta con una plataforma para casetes compatible con casetes SMIF de 8 pulgadas, facilitando la manipulación de las obleas en un ambiente limpio. Incluye una cámara de enfriamiento con bisagra y una puerta tipo ranura nueva, mejorando el control del proceso y la seguridad de las obleas.

El Aspen 2 ICP está equipado con un ensamblaje estándar de robot y una puerta para casetes de 18 pulgadas para mejorar la accesibilidad. Su generador RF es un Adtek AX-1000 II, acompañado de cajas de adaptación RF Trazar AMU 10D X 4, proporcionando capacidades precisas de generación de plasma. El bloque de calefacción/enfriamiento cuenta con un calentador con un patrón de ranuras circulares diseñado para optimizar la gestión térmica durante el procesamiento.

La entrega de gas se gestiona mediante un sistema de tres gases con controladores de flujo másico unitarios (MFC), alojados en una caja de gas de tipo nuevo, asegurando un control del flujo de gas preciso y estable. El exterior de la máquina muestra claramente el logo de Mattson Technology y parece limpio y bien mantenido, sin daños visibles en su carcasa y paneles blancos. Los componentes visibles incluyen un panel de control con botones e interruptores, placas de circuito y componentes electrónicos en una sección abierta, y un componente blanco cilíndrico grande ubicado en la parte inferior derecha de la unidad. Los cables y el cableado están dispuestos ordenadamente, y hay múltiples asas o pestillos en el panel frontal inferior, indicando facilidad de acceso para mantenimiento u operación.

En general, el Mattson Aspen 2 ICP ofrece una configuración robusta adecuada para la oxidación y decapado de obleas semiconductoras, combinando un control preciso del proceso con una condición física limpia e intacta.

La siguiente descripción se ha generado mediante inteligencia artificial a partir de la información disponible del producto. Se ofrece solo como orientación y podría no reflejar todas las especificaciones o condiciones. Contáctenos si necesita información precisa o confirmada.


Información acerca del vendedor

Tipo de cliente Distribuidor de maquinaria
Activo desde 2019
Ofertas en línea 3
Última actividad 7 de abril de 2026

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Peladora Mattson Aspen 2 ICP